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差之毫厘,失之千里。光学薄膜制备作为精密制造领域之一,其精密程度常常达到纳米甚至微纳级别,因此,其制备复杂程度是不言而喻的,有时候微小的失误会导致满盘皆输,为薄膜制备带来巨大困难。
光学薄膜的制备是一个复杂的过程,它是通过将大块固体材料蒸发或溅射,经过气╲相传输,最后在基板→上凝结得到的,在其制备过程中,包括环境真空条件(真空度)、蒸发速率、基板↙温度等多面的工艺因素的影响,对薄膜的微观结构和化学∏成分与理想状况出◤现较大偏差,最终导致薄膜的机械性能、抗激光损伤阈值∞、光学性能的变化【。
在众多的工艺影◇响因素中,影响最大且〖易观察的往往是薄膜的厚度∑ 均匀性,其会严重影响薄膜的物理性☆能,根据制备经验,薄膜的厚度不均匀会导致薄膜光谱性能※产生较大偏移,比如,在增透膜的制备过程中会导致薄膜的透射率偏¤低,其次他还会影响薄膜的激光损伤阈值、薄膜应力等等,正如文头说到的:差之毫厘,失之千里。因此在薄膜制备设备中,往往都配有精确度极高的膜厚监控系统。
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