不同于普通的保护膜或胶带，光学膜●必须厚薄均匀，表面要求无尘、少晶点，这对涂布技术提出了更高的要求，要求制得的膜厚薄更均匀。因此，精密涂布工艺也逐渐发展起◥来并不断地完善。光学膜涂层传统↘上采用真空蒸镀、化学沉积、等离子聚合等▓方法制备，这些方》法难以实现卷式薄膜基材的大规模生产；在现代涂布工艺中，常用的涂布方式有╱浸涂、辊涂、坡流式挤压涂布、落帘涂布等。这些涂布方式各』适用于不同性能的物〓料和涂层厚度，有各自的优缺点。如∏浸涂的涂布量不易控制，受物料的特性和温度影响较大；辊涂涂布的涂层的厚度便于控制，涂布量比较容易控制，均匀〓度较好，但受物卐料特性影响较大，适应物料黏度范围较◇窄；坡流式挤压涂布虽然涂布量容易控制，但适应物料黏度范围较⌒窄，涂布量太小时Ψ 不易涂布，并且不能涂到边缘，造成⊙基材浪费；落帘涂布是一种预计量涂布方式，其操作简→易，纵向、横向涂层厚度都非常均匀，涂层没有刮○痕、条痕、橘皮纹，但落帘容易︽受车速等因素影响，因此，稳定落帘是一个大问题。

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